毛发处理设备的制作方法

本公开总体上涉及一种用于对受试者的毛发进行处理操作的设备，尤其涉及一种结合了离子发生器的毛发处理设备。背景技术：1、许多人关于美有各种各样的问题，以及典型的示例是毛发受损的问题。毛发受损主要是由毛发干燥引起的。毛发的干燥不仅会引起沙沙的感觉，还会引起诸如容易生成静电、整个毛发失去凝聚性和容易附着灰尘等问题。2、考虑到上述情况，生成离子的毛发造型器，诸如直发器、卷发器等已经得到发展。在常规的热处理设备中，负离子是经由负离子发生器由电晕放电生成的。在像直发器那样具有最小气流的毛发造型器的情况下，所生成的负离子最终会饱和，形成邻近离子发生器的基本上静止的离子云。在这种情况下，远离离子发生器的位置处的离子计数可能非常低。这进而导致毛发处理设备或毛发造型器的性能下降。3、本公开旨在克服上述一个或多个限制或者与现有技术中已知的设备相关联的任何其它限制。技术实现思路1、本发明的一个目的是提供一种毛发处理设备，其增强了沿着毛发处理区段(即，沿着加热板)的离子计数，从而增加了离子的覆盖范围，并且因此提供了更好的去毛躁性能。在诸如直发器的毛发造型器的情况下，通过较小的结构修改，期望使得毛发处理设备能够沿着加热板增加离子计数或均匀分布离子计数，这与常规技术不同，常规技术适于增加电离器的输出功率、增加离子出口的数目等，导致毛发处理设备的更高的功耗和复杂性。2、为了更好地解决这些问题中的一个或多个问题，在本公开的第一方面，提供了一种毛发处理设备。毛发处理设备包括主体和加热板，该主体被限定有毛发处理区段，该加热板被设置在毛发处理区段中。加热元件是电导体。此外，毛发处理设备包括至少一个离子发生器，该离子发生器被配置成生成离子并且引导离子通过被限定在主体中的邻近毛发处理区段的凹槽，从而形成离子流。此外，毛发处理设备包括被限定在主体中的离子吸引器。离子吸引器桥接凹槽和加热元件，其中加热元件通过离子吸引器将离子从离子流中吸引到毛发处理设备中，用于沿着凹槽的长度分布离子流。离子沿凹槽的长度的均匀分布为毛发的去毛躁提供了更大的面积，从而便于毛发的有效去毛躁。3、在一个实施例中，离子吸引器是被限定在主体的基本上中心的部分处的导沟。4、在一个实施例中，导沟包括凹槽与加热元件之间的通孔，使得离子流的一部分从凹槽向加热元件流动。5、在一个实施例中，通孔包括横截面积，该横截面积在其整个长度上是恒定的。6、在一个实施例中，至少一个离子发生器被设置在主体中凹槽的任一端处并且被构造成生成阴离子。7、在一个实施例中，凹槽基本上平行于加热元件的至少一个纵向边缘延伸。8、在一个实施例中，毛发处理设备包括接地电路，该接地电路用于将加热元件电接地。接地电路包括印刷电路板和导电构件，导电构件电连接印刷电路板和加热元件。9、在本公开的第二方面，公开了一种用于拉直毛发的毛发造型器。该毛发造型器包括一对臂，该对臂在一端处可枢转地彼此连接。如上所述，该对臂中的每个臂均被配置成接收毛发处理设备。10、在一个实施例中，该对臂中的每个臂是细长的，其中毛发处理区段被限定在一端处，而抓握区段被限定在与该一端相对的另一端处。11、前述技术实现要素：仅是说明性的，并且不旨在以任何方式进行限制。除了上述说明性的方面、实施例和特征之外，通过参考附图和以下详细描述，进一步的方面、实施例和特征将变得显而易见。技术特征：1.一种毛发处理设备(101)，包括：2.根据权利要求1所述的毛发处理设备(101)，其中所述离子吸引器(107)是被限定在所述主体(102)的基本上中心的部分处的导沟。3.根据权利要求2所述的毛发处理设备(101)，其中所述导沟包括所述凹槽(106)与所述加热元件(104)之间的通孔，使得离子流的一部分从所述凹槽(106)向所述加热元件(104)流动。4.根据权利要求3所述的毛发处理设备(101)，其中所述通孔包括横截面积，所述横截面积在其整个长度上是恒定的。5.根据权利要求1所述的毛发处理设备(101)，其中所述至少一个离子发生器(105)被设置在所述主体(102)中的所述凹槽(106)的任一端处。6.根据权利要求1所述的毛发处理设备(101)，其中所述至少一个离子发生器(105)被构造成生成阴离子。7.根据权利要求1所述的毛发处理设备(101)，其中所述凹槽(106)基本上平行于所述加热元件(104)的纵向边缘延伸。8.根据权利要求1所述的毛发处理设备(101)，还包括接地电路(108)，所述接地电路用于将所述加热元件(104)电接地。9.根据权利要求8所述的毛发处理设备(101)，其中所述接地电路(108)包括：10.一种用于拉直毛发的毛发造型器(100)，所述毛发造型器(100)包括：11.根据权利要求10所述的毛发造型器(100)，其中根据权利要求1至9所述的毛发处理设备(101)被设置在所述一对臂(112)中的每个臂中。12.根据权利要求10和11所述的毛发造型器(100)，其中所述一对臂(112)中的每个臂是细长的，其中所述毛发处理设备(101)被设置在一端处，而抓握区段被限定在与所述一端相对的另一端处。技术总结本公开公开了一种毛发处理设备。毛发处理设备包括主体和加热板，该主体被限定有毛发处理区段，该加热板被设置在毛发处理区段中。加热元件是电导体。此外，毛发处理设备包括至少一个离子发生器，该离子发生器被配置成生成离子并且引导离子通过被限定在主体中的邻近毛发处理区段的凹槽，从而形成离子流。此外，毛发处理设备包括被限定在主体中的离子吸引器。离子吸引器桥接凹槽和加热元件，其中加热元件通过离子吸引器从离子流中吸引离子，用于沿着凹槽的长度分布离子流。离子沿凹槽的长度的均匀分布为毛发的去毛躁提供了更大的面积，从而便于毛发的有效去毛躁。技术研发人员：K·W·萧,C·M·吴受保护的技术使用者：皇家飞利浦有限公司技术研发日：技术公布日：2024/8/16