原子吸收分光光度计的控制方法及原子吸收分光

本发明涉及一种原子吸收分光光度计的控制方法及原子吸收分光光度计。背景技术：1、以往，公知在对同一试样进行测量的过程中，一边切换作为测量对象的元素一边连续进行多元素测量的原子吸收分光光度计。在这种原子吸收分光光度计中，为了确保测量灵敏度以及测量精度，按照每个测量元素而预先定义最佳的控制参数。2、为了提高测量精度，需要与该测量元素的测量条件相应地切换测量的开始和结束的时机。例如，在专利文献1中，公开了一种在火焰原子吸收分光光度计中，根据吸光度的增加量以及吸光度的稳定性自动决定测量开始的执行时机的方法。3、现有技术文献4、专利文献5、专利文献1：日本特开2000-346799号公报技术实现思路1、发明要解决的问题2、另一方面，在专利文献1中，未考虑针对1个未知试样切换测量元素来进行测量的结构。适合于测量的控制参数根据被设想为包含于未知试样中的测量元素而不同，但是例如针对控制参数为1个的可燃性气体流量，难以预测作为适合于测量的状态而到稳定化为止所需的时间。尤其是，即使通过切换前后的可燃性气体流量的组合，到稳定化为止所需的时间也会发生变动。因此，当在1个未知试样的测量的过程中，切换控制参数来进行测量的情况下，需要用户适当调整测量时刻。作为由用户进行的调整的结果，即使是相同测量元素的组合，也会导致需要依赖于用户的测量时间。此外，根据测量元素的数量增加的情况，会导致用户花费的工夫增加。3、在通过原子吸收分光光度计针对1个未知试样测量多个元素的情况下，要求测量时间整体的优化、以及用户的便利性。尤其是，根据切换上述这样的控制参数时的变更内容，维持测量的精度所需的时间会产生差异。因此，要求既考虑测量精度又自动地进行更高效的变更的结构。4、本发明是鉴于上述问题而完成的，目的在于提供如下结构：当在原子吸收分光光度计中与多个元素对应地进行测量的控制参数的变更时，既维持测量精度又自动地进行测量时间的优化。5、用于解决问题的手段6、为了解决上述课题本发明具有下述结构。即，一种原子吸收分光光度计的控制方法，所述原子吸收分光光度计进行试样中所包含的多个元素的测量，其中，所述控制方法具有以下步骤：7、切换步骤，按照所述多个元素的测量顺序，切换为与作为测量对象的元素对应的控制参数；8、测量步骤，在切换了所述控制参数之后，开始针对与该控制参数对应的元素的吸光度的测量；9、第1判定步骤，判定在所述测量步骤中测量出的吸光度的稳定性；以及10、记录步骤，当在所述第1判定步骤中判定为稳定的情况下，开始记录在所述测量中测量的吸光度，并且持续预定时间进行记录，11、按照所述测量顺序，反复进行所述切换步骤、所述测量步骤、所述第1判定步骤以及所述记录步骤。12、此外，本发明的另一个方式具有以下的结构。即，一种原子吸收分光光度计，所述原子吸收分光光度计进行试样中所包含的多个元素的测量，其中，所述原子吸收分光光度计具有控制所述测量的控制单元，13、所述控制单元按照所述多个元素的测量顺序反复进行以下处理：14、按照所述测量顺序，切换为与作为测量对象的元素对应的控制参数；15、在切换了所述控制参数之后，开始针对与该控制参数对应的元素的吸光度的测量；16、判定所述测量出的吸光度的稳定性；以及17、在判定为所述吸光度稳定的情况下，开始记录在所述测量中测量的吸光度，并且持续预定时间进行记录。18、发明效果19、通过本发明，当在原子吸收分光光度计中与多个元素对应地进行测量的控制参数的变更时，能够维持测量精度，并且自动地进行测量时间的优化。技术特征：1.一种原子吸收分光光度计的控制方法，所述原子吸收分光光度计进行试样中所包含的多个元素的测量，其中，2.根据权利要求1所述的控制方法，其中，3.根据权利要求2所述的控制方法，其中，4.根据权利要求1所述的控制方法，其中，5.根据权利要求1所述的控制方法，其中，6.根据权利要求1所述的控制方法，其中，7.根据权利要求1所述的控制方法，其中，8.根据权利要求1所述的控制方法，其中，9.一种原子吸收分光光度计，所述原子吸收分光光度计进行试样中所包含的多个元素的测量，其中，技术总结提供原子吸收分光光度计的控制方法及原子吸收分光光度计。当在原子吸收分光光度计中与多个元素对应地进行测量的控制参数的变更时，维持测量精度且自动进行测量时间的优化。原子吸收分光光度计进行试样中包含的多个元素的测量，控制方法具有：切换步骤，按照多个元素的测量顺序切换为与作为测量对象的元素对应的控制参数；测量步骤，在切换了控制参数之后开始针对与该控制参数对应的元素的吸光度的测量；第1判定步骤，判定在测量步骤中测量出的吸光度的稳定性；记录步骤，当在第1判定步骤中判定为稳定的情况下，开始记录所述测量中测量的吸光度，且持续预定时间进行记录，按照测量顺序反复进行切换步骤、测量步骤、第1判定步骤和记录步骤。技术研发人员：中村理志,户辺早人,山本和子,西村崇,石田浩康,栉田芳昭受保护的技术使用者：日本株式会社日立高新技术科学技术研发日：技术公布日：2024/8/16