发布日期:2024-06-10 浏览次数:次
本技术涉及农业种植,具体涉及一种无土栽培架。背景技术:1、基质栽培是指用固体基质固定植物根系,并通过基质吸收营养液和氧的一种无土栽培方式。传统的基质栽培多为简单的单一结构,植物根系发展空间不足,也不利于根际水肥的精准管理调控,浇多了会导致作物烂根,浇少了又会导致作物缺水死亡,如果采用少量多次灌溉则会增加人工劳作强度。2、经检索,公告号为cn211020165u的中国专利,本实用新型公开了一种八月瓜种植装置,属于农业种植设备领域,它包括种植槽体,种植槽体底部为v字形积水槽,积水槽的底部设有渗漏管,利于水的渗漏,本实用新型的种植槽体利于排水,解决了作物烂根的问题,还具有良好的保肥和透气的功效。但是,该装置中只通过无纺纱布层来保水,很难实现较好的保水性,天气干旱时需要多次进行喷灌;根系在泥土和基质中向下生长,发展空间有限。技术实现思路1、针对上述存在的问题,本实用新型旨在提供一种无土栽培架,为根系生长提供充足的空间和水分,保证作物根系的正常生长,同时具有一定的保水性,降低人工灌溉频率。2、本实用新型所采用的技术方案的主要思路:设计一种菱形的支撑块,用于支撑栽培砖,增大植物根系的生长空间,同时避免栽培砖底部滋生细菌,设计为菱形能够减小水流阻力,气温高时便于加速降温,在此基础上设计有与水流方向同向的通孔,能够使根系穿过,增大根系的生长空间,使根系能够缠绕在支撑块上,起到固定根的作用;同时作物生长的容器采用镂空栽培杯和栽培砖相结合的结构,使作物在栽培杯中生长,根系环绕在栽培砖四周,根区环境无生长阻力,为根系生长提供充足的空间,保水性良好的栽培砖吸收水为根系提供储备水分,减少灌溉次数,降低劳作强度。3、为了实现上述目的,本实用新型所采用的技术方案如下:4、一种无土栽培架,包括架体,所述架体上开设有敞口的栽培槽,其特征在于:5、所述栽培槽底部设置有菱形的支撑块,所述支撑块上开设有通孔,所述支撑块与栽培槽固定连接,所述支撑块上放置有栽培砖,所述栽培砖上放置有镂空的栽培杯。6、通过以上技术方案,进一步地:所述栽培砖为砖状硬质基质块。7、通过以上技术方案,进一步地:所述栽培杯内部设置有保护层,所述保护层为无纺布材质。8、通过以上技术方案,进一步地:所述栽培槽两侧分别设置有进水管及出水管。9、通过以上技术方案,进一步地:所述出水管管口处设置有过滤网。10、通过以上技术方案,进一步地:所述栽培槽上设置有反光铝膜层。11、本实用新型的有益效果是:12、1、栽培槽中设置有多组菱形的支撑块,用于支撑栽培砖,增大植物根系的生长空间,避免栽培砖底部滋生细菌导致栽种作物病害;设置为菱形可减少对水的阻力,气温高时便于加速降温;设计有与水流方向同向的通孔,能够使根系穿过,增大根系的生长空间,使根系能够缠绕在支撑块上,起到固定根的作用,同时便于水流流过,气温高时便于加速降温。13、2、采用镂空栽培杯和栽培砖相结合的结构作为作物生长的容器,栽培杯放置在栽培砖之上,栽培砖底部设置有菱形的支撑块,使作物在栽培杯中生长,根系环绕在栽培砖四周,根区环境无生长阻力,为根系生长提供充足的空间,同时保水性良好的栽培砖吸收水为根系提供储备水分,能够减少灌溉次数,降低劳作强度。14、3、镂空的栽培杯内部包覆有一层白色无纺布,一方面能够保护基质,避免基质流失堵塞出水口以及污染栽培槽,另一方面能够保证作物根系的正常生长;同时白色可以减少蓄热。15、4、栽培槽上设置有反光铝膜,一方面用于遮盖栽培槽,能够避免槽内生长青苔,污染栽培槽,另一方面用于遮阳,减少直射光,降低根系温度。技术特征:1.一种无土栽培架,包括架体(1),所述架体(1)上开设有敞口的栽培槽(101),其特征在于:2.根据权利要求1所述的一种无土栽培架,其特征在于:所述栽培砖(2)为砖状硬质基质块。3.根据权利要求2所述的一种无土栽培架,其特征在于:所述栽培杯(3)内部设置有保护层(4),所述保护层(4)为无纺布材质。4.根据权利要求3所述的一种无土栽培架,其特征在于:所述栽培槽(101)两侧分别设置有进水管(104)及出水管(105)。5.根据权利要求4所述的一种无土栽培架,其特征在于:所述出水管(105)管口处设置有过滤网(106)。6.根据权利要求5所述的一种无土栽培架,其特征在于:所述栽培槽(101)上设置有反光铝膜层(5)。技术总结本技术公开了一种无土栽培架,涉及农业种植技术领域,传统的基质栽培多为单一结构,植物根系发展空间不足,且很难进行水量的精准调控,需要进行少量多次灌溉。本技术提供了一种无土栽培架,栽培槽中设置有多组菱形的支撑块,用于支撑栽培砖,增大植物根系的生长空间,避免栽培砖底部滋生细菌,设置为菱形能够减小水流阻力,此外与水流方向同向的通孔能够使根系穿过,起到固定根的作用;作物生长的容器采用镂空栽培杯和栽培砖相结合的结构,作物在栽培杯中生长,根系环绕在栽培砖四周,根区环境无任何生长阻力,为根系生长提供充足的空间,保水性良好的栽培砖吸水为根系提供储备水分,减少灌溉次数,降低劳作强度。技术研发人员:陶帅,侯彦华,段发民,杜红斌,史大炜,罗畅,管振立,海龙,杨云清,尹俊伟,朱小康,李川川受保护的技术使用者:塔里木大学技术研发日:20230914技术公布日:2024/5/19