去污强度传感器、去污系统、去污强度检测方法

本发明涉及去污强度传感器、去污系统、去污强度检测方法和去污强度检测程序。背景技术：1、专利文献1公开了一种去污系统，其能够利用过氧乙酸对作为去污对象的一个例子的安全柜的内部进行去污。在该去污系统中，使用配置在安全柜内的生物指示剂(biological indicator)来判断是否已完成去污。2、现有技术文献3、专利文献4、专利文献1：日本特许第6067384号公报技术实现思路1、发明要解决的技术问题2、在上述去污系统中，将附着在生物指示剂上的细菌等在培养液中培养，根据培养液的颜色的变化，来判断去污对象的去污是否已完成。为了培养细菌等，需要至少1周左右的时间。因此，上述去污系统无法在短时间内判断去污对象的去污是否已完成。3、本发明的目的在于提供能够在短时间内判断去污对象的去污是否已完成的去污强度传感器、去污系统、去污强度检测方法、和去污强度检测程序。4、用于解决技术问题的手段5、本发明的第一方面的去污强度传感器，用于检测被过氧乙酸去除的微生物和病毒中的至少一者的去除程度，其特征在于：包含暴露部，该暴露部由能够被所述过氧乙酸腐蚀的金属构成，并且所述金属暴露。6、本申请的发明人(们)发现，当存在能够被过氧乙酸去除的微生物和病毒中的至少一者的去污对象被过氧乙酸进行去污时，随着去污强度变高，金属的腐蚀会加剧，电阻值会增加。根据上述去污强度传感器，随着去污对象的去污强度变高，暴露部的腐蚀会加剧，因此，暴露部的电阻值会增加。因此，例如，当去污开始前的暴露部的电阻值与去污开始后的暴露部的电阻值之间的关系，满足能够判断为已完成预先确定的去污的条件时，能够判断为已完成去污。因此，能够在短时间内判断去污对象的去污是否已完成。7、本发明的第二方面的去污强度传感器的特征在于，在第一方面的去污强度传感器中，所述腐蚀包含使所述金属转化成乙酸盐的化学反应。8、乙酸盐可溶于水中。根据上述去污强度传感器，在暴露部腐蚀了的情况下，能够通过例如利用由纯水润湿了的无纺布擦拭腐蚀了的部分，来将腐蚀了的部分去除。9、本发明的第三方面的去污强度传感器的特征在于，在第一方面或第二方面的去污强度传感器中，所述金属包含铜和锌中的至少一种。10、根据上述去污强度传感器，能够利用过氧乙酸顺利地进行暴露部的腐蚀。11、本发明的第四方面的去污强度传感器的特征在于，在第三方面的去污强度传感器中，所述金属是包含所述铜和所述锌的合金。12、根据上述去污强度传感器，能够利用过氧乙酸特别顺利地进行暴露部的腐蚀。13、本发明的第五方面的去污强度传感器的特征在于，在第一方面～第四方面中任一方面的去污强度传感器中，包括：第1传感器部，其包含所述暴露部；和第2传感器部，其由所述金属构成，并被掩蔽以使得所述金属不被腐蚀。14、根据上述去污强度传感器，随着去污对象的去污强度变高，第1传感器部的暴露部的腐蚀加剧，因此，第1传感器部的电阻值会增加。另一方面，第2传感器部被掩蔽，因此，即使在去污对象的去污强度变高的情况下也不会被腐蚀。因此，第2传感器部的电阻值实质上不会发生变化。因此，当第1传感器部的电阻值与第2传感器部的电阻值的关系满足能够判断为已完成预先确定的去污的条件时，能够判断为已完成去污。因此，能够在短时间内判断去污对象的去污是否已完成。15、本发明的第六方面的去污系统的特征在于，包括：第一方面～第五方面中任一方面的去污强度传感器；和去污装置，其能够向存在所述微生物和所述病毒中的至少一者的去污对象喷出所述过氧乙酸。16、根据上述去污系统，能够获得与第一方面的去污强度传感器所获得的效果相同的效果。17、本发明的第七方面的去污系统的特征在于，在第六方面的去污系统中，所述去污装置能够在所述暴露部的腐蚀进度满足能够判断为已完成预先确定的去污的条件时，停止喷出所述过氧乙酸。18、根据上述去污系统，能够抑制过氧乙酸的喷出量增多。19、本发明的第八方面的去污强度检测方法的特征在于，使用去污强度传感器来检测被过氧乙酸去除的微生物和病毒中的至少一者的去除程度，所述去污强度传感器包含暴露部，该暴露部由能够被所述过氧乙酸腐蚀的金属构成，并且所述金属暴露，所述去污强度检测方法包括下述步骤：判断所述暴露部的腐蚀进度是否满足能够判断为已完成预先确定的去污的条件。20、根据上述去污强度检测方法，能够获得与第一方面的去污强度传感器所获得的效果相同的效果。21、本发明的第九方面的去污强度检测程序的特征在于，使用去污强度传感器来检测被过氧乙酸去除的微生物和病毒中的至少一者的去除程度，所述去污强度传感器包含暴露部，该暴露部由能够被所述过氧乙酸腐蚀的金属构成，并且所述金属暴露，所述去污强度检测程序能够使计算机执行下述步骤：判断所述暴露部的腐蚀进度是否满足能够判断为已完成预先确定的去污的条件。22、根据上述去污强度检测程序，能够获得与第一方面的去污强度传感器所获得的效果相同的效果。23、发明效果24、根据本发明的去污强度传感器、去污系统、去污强度检测方法、和去污强度检测程序，能够在短时间内判断去污对象的去污是否已完成。技术特征：1.一种去污强度传感器，其用于检测被过氧乙酸去除的微生物和病毒中的至少一者的去除程度，所述去污强度传感器的特征在于：2.如权利要求1所述的去污强度传感器，其特征在于：3.如权利要求1或2所述的去污强度传感器，其特征在于：4.如权利要求3所述的去污强度传感器，其特征在于：5.如权利要求1或2所述的去污强度传感器，其特征在于，包括：6.一种去污系统，其特征在于，包括：7.如权利要求6所述的去污系统，其特征在于：8.一种去污强度检测方法，其特征在于：9.一种去污强度检测程序，其特征在于：技术总结去污强度传感器用于检测被过氧乙酸去除的微生物和病毒中的至少一者的去除程度，其包含暴露部，该暴露部由能够被所述过氧乙酸腐蚀的金属构成，并且所述金属暴露。技术研发人员：茂田诚,池田卓司受保护的技术使用者：霓达株式会社技术研发日：技术公布日：2024/8/16