一种激光光斑均匀性的测量装置的制作方法
发布日期:2024-08-22 浏览次数: 专利申请、商标注册、软件著作权、资质办理快速响应热线:4006-054-001 微信:15998557370
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摘要: | 本申请涉及激光检测,尤其涉及一种激光光斑均匀性的测量装置。、激光照射人体后,会和人体组织发生多种反应,如化学反应、生物反应、光热反应等,人们根据这些特性,将激光应用在医学治疗上,并获得了极大的成效。激光光动力治疗是一种利用激光诊断和治疗疾病的一种新技术,其主要机制是在局部应用光敏剂,由于正... | ||
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本申请涉及激光检测,尤其涉及一种激光光斑均匀性的测量装置。背景技术:1、激光照射人体后,会和人体组织发生多种反应,如化学反应、生物反应、光热反应等,人们根据这些特性,将激光应用在医学治疗上,并获得了极大的成效。激光光动力治疗是一种利用激光诊断和治疗疾病的一种新技术,其主要机制是在局部应用光敏剂,由于正常组织与病变组织吸收及代谢速度的不同,在一定时间后光敏剂会在病变组织中积聚较高的浓度,经过一系列代谢生成光敏物质,经特定波长光照射后,有目的地破坏病变组织,而又能保留正常组织结构,是一种新型、高效、精准的治疗手段。激光光动力疗法的准确性和安全性,取决于激光是否能够精确的与光敏物质反应,而这种精确的反应取决于激光的多个参数,激光功率的均匀性是重要参数之一。2、按照激光光动力yy0845-2011标准要求,功率密度分布均匀性测试方法是将照射光斑调节到半径r为40mm,然后取9个测试点,用光功率计测每个点的功率大小,再根据公式计算出光斑的均匀性。但是该方法无法用激光光斑分析仪等仪器测量,且现有的测量装置的测量效率较低、测试的准确性和安全性较差。3、因此,如何提高测量装置的操作便捷性以及测量装置的测量效率,成为需要解决的问题。4、在背景技术中公开的上述信息仅用于加强对本申请的背景的理解,因此其可能包含没有形成为本领域普通技术人员所知晓的现有技术的信息。技术实现思路1、本申请提供一种激光光斑均匀性的测量装置,用以解决现有技术存在的问题。2、本申请提供一种激光光斑均匀性的测量装置,包括:可调节支撑结构、挡光结构和光功率计;所述可调节支撑结构包括:支撑底座、支撑连接杆和用于调节所述挡光结构位置的位置调节结构,所述支撑连接杆设于所述支撑底座的上端,所述位置调节结构设于所述支撑底座上;所述挡光结构设于所述支撑连接杆上,所述挡光结构的正面为激光照射面,所述挡光结构上设有多个测量通孔;所述光功率计设于所述挡光结构的背面,所述光功率计包括:用于测量所述测量通孔的光功率值的探头和用于显示所述光功率值的显示屏,所述探头与所述显示屏电性连接,所述探头通过吸附组件设于所述挡光结构上。3、在一些实施例中,所述位置调节结构包括:用于调节所述挡光结构的水平方向位置的水平位置调节组件;以及,用于调节所述挡光结构的竖直方向位置的垂直位置调节组件。4、在一些实施例中,所述挡光结构上还设有光斑瞄准标记线,所述光斑瞄准标记线设于所述激光照射面上。5、在一些实施例中,所述测量通孔设于所述光斑瞄准标记线的范围内,且所述测量通孔为轴对称方式排列。6、在一些实施例中,所述测量通孔的数量为9个,所述测量通孔的形状为圆形。7、在一些实施例中,所述测量通孔的半径为2.5mm。8、在一些实施例中,所述挡光结构的材质包括金属。9、在一些实施例中,所述吸附组件相对于所述挡光结构可进行移动。10、在一些实施例中,所述光斑瞄准标记线为圆圈标记线,所述圆圈标记线的半径为40mm。11、本申请提供的激光光斑均匀性的测量装置,包括:可调节支撑结构、挡光结构和光功率计;所述可调节支撑结构包括:支撑底座、支撑连接杆和用于调节所述挡光结构位置的位置调节结构,所述支撑连接杆设于所述支撑底座的上端,所述位置调节结构设于所述支撑底座上;所述挡光结构设于所述支撑连接杆上,所述挡光结构的正面为激光照射面,所述挡光结构上设有多个测量通孔;所述光功率计设于所述挡光结构的背面,所述光功率计包括:用于测量所述测量通孔的光功率值的探头和用于显示所述光功率值的显示屏,所述探头与所述显示屏电性连接,所述探头通过吸附组件设于所述挡光结构上。12、本申请的激光光斑均匀性的测量装置,通过在支撑底座上增设位置调节结构,操作者能够根据使用需求,利用位置调节结构来调整挡光结构的位置,使得激光快速、精准地对准挡光结构上的对应位置,提高测量效率;利用吸附组件将探头吸附在挡光结构上,通过吸附组件带动探头在挡光结构的背面进行移动,使得探头完成一个测量通孔处的光功率值测量后,能够快速移动至另一测量通孔进行测量,操作过程简单便捷,有利于提高测量效率。技术特征:1.一种激光光斑均匀性的测量装置,其特征在于,包括:可调节支撑结构、挡光结构和光功率计;2.根据权利要求1所述的激光光斑均匀性的测量装置,其特征在于,所述位置调节结构包括:3.根据权利要求1所述的激光光斑均匀性的测量装置,其特征在于,所述挡光结构上还设有光斑瞄准标记线,所述光斑瞄准标记线设于所述激光照射面上。4.根据权利要求3所述的激光光斑均匀性的测量装置,其特征在于,所述测量通孔设于所述光斑瞄准标记线的范围内,且所述测量通孔为轴对称方式排列。5.根据权利要求1所述的激光光斑均匀性的测量装置,其特征在于,所述测量通孔的数量为9个,所述测量通孔的形状为圆形。6.根据权利要求5所述的激光光斑均匀性的测量装置,其特征在于,所述测量通孔的半径为2.5mm。7.根据权利要求1所述的激光光斑均匀性的测量装置,其特征在于,所述吸附组件相对于所述挡光结构可进行移动。8.根据权利要求3所述的激光光斑均匀性的测量装置,其特征在于,所述光斑瞄准标记线为圆圈标记线,所述圆圈标记线的半径为40mm。技术总结本申请提供一种激光光斑均匀性的测量装置,包括:可调节支撑结构、挡光结构和光功率计;可调节支撑结构包括:支撑底座、支撑连接杆和用于调节挡光结构位置的位置调节结构,支撑连接杆设于支撑底座的上端,位置调节结构设于支撑底座上;挡光结构设于支撑连接杆上,挡光结构的正面为激光照射面,挡光结构上设有多个测量通孔;光功率计设于挡光结构的背面,光功率计包括:用于测量光功率值的探头和用于显示光功率值的显示屏,探头与显示屏电性连接,探头通过吸附组件设于挡光结构上。本申请涉及的技术方案,利用位置调节结构调整挡光结构的位置,利用吸附组件带动探头在挡光结构进行移动,操作过程简单便捷,有利于提高测量效率。技术研发人员:李敏,陈艺艺,李广,郝明哲受保护的技术使用者:上海曼迪森光电有限公司技术研发日:20230814技术公布日:2024/8/16
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