一种控油祛痘原料的组合物、制备方法及其应用

本发明涉及化妆品，尤其是涉及一种控油祛痘原料的组合物、制备方法及其应用。背景技术：1、水杨酸作为一种广泛应用于化妆品中的成分，具有显著的抗菌、祛痘和控油功能。然而，传统水杨酸在应用中存在一系列问题，包括难以溶解于水中、对肌肤刺激性大、ph应用范围窄及光稳定性差等。2、现有的技术中，如公开号为cn114028265a的中国专利，其公开了一种超分子包埋水杨酸及其制备方法。该超分子包埋水杨酸，按浓度百分比计，包括35％的水杨酸、45％的糊精以及20％的芝麻氨基酸。其中，糊精为超分子环糊精。该超分子包埋水杨酸的制备方法，包括以下步骤：(1)制备水杨酸溶液：(2)制备糊精水溶液；(3)制备芝麻氨基酸水溶液；(4)将水杨酸溶液、糊精水溶液以及芝麻氨基酸水溶液混合，此时水杨酸，糊精以及芝麻氨基酸在混合水溶液中浓度百分比计分别为35％、45％、20％，超声处理5min，静置90min后得超分子包埋水杨酸溶液。3、上述中的现有技术方案存在以下缺陷：虽然上述的发明通过糊精包裹的水杨酸(sa-200)在一定程度上解决了溶解性问题，但仍未能全面解决上述挑战。传统水杨酸难溶于水，需要将其先用naoh中和成水杨酸钠盐，再反向回调至弱酸性条件。通过糊精包裹的水杨酸(sa-200)解决了水杨酸溶解性差的问题，但同时也存在光照容易变色、酸性条件下析出与肤感黏腻等问题。例如ph适用范围较窄，在体系ph低于4.0时有析出风险，并且其稳定性差，长期光照条件下水杨酸溶液会发黄，从而导致化妆品与肤感黏腻的问题。技术实现思路1、针对现有技术存在的不足，本发明的目的是提供一种控油祛痘原料的组合物、制备方法及其应用，其通过使用羟基磷灰石作为载体，进行了二次包埋处理，旨在提高水杨酸的光稳定性、化妆品中的稳定性，改善肤感并增强对肌肤的控油性能。羟基磷灰石通过形成空穴结构，将sa200包埋于其内部，从而实现了对水杨酸的有效保护和缓释，提高了其在护肤品中的应用效果和用户体验。2、本发明的上述发明目的是通过以下技术方案得以实现的：3、一种控油祛痘原料的组合物，按浓度百分比计，包括以下组分：70％-80％的羟基磷灰石、5％-15％的水杨酸、6％-6.5％的支链淀粉、3％-7％的糊精以及2.75％-4.75％的黄原胶。4、作为本发明的进一步的技术方案：按浓度百分比计，包括以下组分：75％的羟基磷灰石、10％的水杨酸、6.25％的支链淀粉、5％的糊精以及3.75％的黄原胶。5、如上述的一种控油祛痘原料的组合物制备方法，包括以下步骤：6、步骤1、制备sa-200，将水杨酸溶液与糊精水溶液混合，并往混合液中加入直链淀粉与黄原胶，此时水杨酸、支链淀粉、糊精以及黄原胶在混合水溶液中浓度百分比计分别为35％-45％、20％-30％、15％-25％、10％-20％，超声处理10min，静止120min后得到sa-200溶液；7、步骤2、制备羟基磷灰石水溶液；8、步骤3、利用羟基磷灰石包埋sa-200，将sa-200溶液与羟基磷灰石水溶液混合，此时sa-200与羟基磷灰石在混合水溶液中浓度百分比计分别为20％-30％、70％-80％，超声处理10min，静止120min后得到控油祛痘原料的组合物。9、作为本发明的进一步的技术方案：在步骤1中，水杨酸、支链淀粉、糊精以及黄原胶在混合水溶液中浓度百分比计分别为40％、25％、20％、15％。10、作为本发明的进一步的技术方案：其特征在于，在步骤3中，sa-200与羟基磷灰石在混合水溶液中浓度百分比计分别为25％、75％。11、如上述的一种控油祛痘原料的组合物在制备改善痘痘肌的护肤品与控油护肤品中的应用。12、如上述的一种控油祛痘原料的组合物在制备抗衰祛皱的护肤品或者化妆品中的应用。13、如上述的一种控油祛痘原料的组合物在制备嫩肤提亮的护肤品或者化妆品中的应用。14、如上述的一种控油祛痘原料的组合物在制备美白淡斑的护肤品或者化妆品中的应用。15、如上述的一种控油祛痘原料的组合物在制备改善皮肤屏障的护肤品或者化妆品中的应用。16、综上所述，本发明包括以下至少一种有益技术效果：17、1.本发明公开了一种控油祛痘原料的组合物、制备方法及其应用，其通过使用羟基磷灰石作为载体，进行了二次包埋处理，旨在提高水杨酸的光稳定性、化妆品中的稳定性，改善肤感并增强对肌肤的控油性能。羟基磷灰石通过形成空穴结构，将sa200包埋于其内部，从而实现了对水杨酸的有效保护和缓释，提高了其在护肤品中的应用效果和用户体验。18、2.本发明ph稳定性与水杨酸析出测试预期将展现羟基磷灰石包埋sa200在酸性条件下的优异稳定性，显著降低水杨酸的析出。利用包埋技术有效提高了水杨酸在低ph环境中的应用潜力，为敏感肌肤化妆品的开发提供新的可能。19、3.本发明在光稳定性测试中，羟基磷灰石包埋sa200预计会显示出较低的光敏感性和较好的颜色保持能力。这表明了该技术能够有效抵御紫外线引起的化学降解，延长产品的有效期并保持其有效成分的稳定性。20、4.本发明配方体系中的质地、肤感与稳定性测试预期会证明羟基磷灰石包埋sa200在化妆品配方中提供了更优越的肤感和使用体验，同时保持了配方的稳定性。特别是在控油和抗痘效果方面，预期通过实际使用评估展现其相对于传统水杨酸产品的明显优势。技术特征：1.一种控油祛痘原料的组合物，其特征在于，按浓度百分比计，包括以下组分：70％-80％的羟基磷灰石、5％-15％的水杨酸、6％-6.5％的支链淀粉、3％-7％的糊精以及2.75％-4.75％的黄原胶。2.根据权利要求1所述的一种控油祛痘原料的组合物，其特征在于，按浓度百分比计，包括以下组分：75％的羟基磷灰石、10％的水杨酸、6.25％的支链淀粉、5％的糊精以及3.75％的黄原胶。3.如权利要求1-2任一项所述的一种控油祛痘原料的组合物制备方法，其特征在于，包括以下步骤：4.根据权利要求3所述的一种控油祛痘原料的组合物制备方法，其特征在于，在步骤1中，水杨酸、支链淀粉、糊精以及黄原胶在混合水溶液中浓度百分比计分别为40％、25％、20％、15％。5.根据权利要求3-4任一项所述的一种控油祛痘原料的组合物制备方法，其特征在于，在步骤3中，sa-200与羟基磷灰石在混合水溶液中浓度百分比计分别为25％、75％。6.如权利要求1-2任一项所述的一种控油祛痘原料的组合物的应用，其特征在于，上述的组合物在制备改善痘痘肌的护肤品与控油护肤品中的应用。7.如权利要求1-2任一项所述的一种控油祛痘原料的组合物的应用，其特征在于，其特征在于，上述的组合物在制备抗衰祛皱的护肤品或者化妆品中的应用。8.如权利要求1-2任一项所述的一种控油祛痘原料的组合物的应用，其特征在于，其特征在于，上述的组合物在制备嫩肤提亮的护肤品或者化妆品中的应用。9.如权利要求1-2任一项所述的一种控油祛痘原料的组合物的应用，其特征在于，其特征在于，上述的组合物在制备美白淡斑的护肤品或者化妆品中的应用。10.如权利要求1-2任一项所述的一种控油祛痘原料的组合物的应用，其特征在于，其特征在于，上述的组合物在制备改善皮肤屏障的护肤品或者化妆品中的应用。技术总结本发明涉及一种控油祛痘原料的组合物、制备方法及其应用，组合物按浓度百分比计，包括以下组分：70％‑80％的羟基磷灰石、5％‑15％的水杨酸、6％‑6.5％的支链淀粉、3％‑7％的糊精以及2.75％‑4.75％的黄原胶。组合物制备方法包括以下步骤：步骤1、制备SA‑200，将水杨酸溶液与糊精水溶液混合，并往混合液中加入直链淀粉与黄原胶，超声处理10min，静止120min后得到SA‑200溶液；步骤2、制备羟基磷灰石水溶液；步骤3、利用羟基磷灰石包埋SA‑200，将SA‑200溶液与羟基磷灰石水溶液混合，超声处理10min，静止120min后得到控油祛痘原料的组合物。其通过使用羟基磷灰石作为载体，进行了二次包埋处理，旨在提高水杨酸的光稳定性、化妆品中的稳定性，改善肤感并增强对肌肤的控油性能。技术研发人员：施棣文,施威受保护的技术使用者：上海上水和肌生物科技有限公司技术研发日：技术公布日：2024/8/16