防止电极脱落的雾化组件及气溶胶产生装置的制
发布日期:2024-08-21 浏览次数: 专利申请、商标注册、软件著作权、资质办理快速响应热线:4006-054-001 微信:15998557370
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摘要: | 本技术涉及电子雾化,尤其涉及一种防止电极脱落的雾化组件及气溶胶产生装置。、气溶胶产生装置又称之为电子雾化装置,电子雾化装置包括雾化组件和电源组件,电源组件用于给雾化组件提供电能,雾化组件用于对烟液进雾化产生气溶胶。、目前,雾化组件与供电组件之间往往磁吸配合的方式连接在一起,在时间久了之后,... | ||
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本技术涉及电子雾化,尤其涉及一种防止电极脱落的雾化组件及气溶胶产生装置。背景技术:1、气溶胶产生装置又称之为电子雾化装置,电子雾化装置包括雾化组件和电源组件,电源组件用于给雾化组件提供电能,雾化组件用于对烟液进雾化产生气溶胶。2、目前,雾化组件与供电组件之间往往磁吸配合的方式连接在一起,在时间久了之后,雾化组件上的磁吸件容易出现松动的现象,影响雾化组件与供电组件之间连接配合,可能会造成雾化组件与供电组件之间接触不良的现象,从而降低用户对气溶胶产生装置的使用体验。技术实现思路1、本实用新型的主要目的是提供一种防止电极脱落的雾化组件及气溶胶产生装置,旨在解决现有技术中雾化组件与供电组件相配合时容易松动或脱落的问题。2、为实现上述目的,本实用新型提出的一种防止电极脱落的雾化组件,所述防止电极脱落的雾化组件包括底座以及导电件,所述底座开设有卡孔,所述导电件包括导电部以及与所述导电部相连接的固定柱,所述导电部与所述固定柱一体成型设置,所述固定柱与所述卡孔卡扣连接。3、可选地,所述卡孔内设置有卡块,所述固定柱包括柱本体以及与所述柱本体相连接的卡接头,所述卡接头与所述柱本体之间形成有卡槽,所述卡块与所述卡槽相配合。4、可选地,所述柱本体与所述卡孔过渡配合。5、可选地,所述卡接头的直径在远离所述柱本体的方向上呈渐缩设置。6、可选地,所述柱本体靠近所述卡槽的一侧设有圆弧倒角。7、可选地,所述卡块面向所述导电部的一侧设有倒角。8、可选地,所述导电件由导电磁性材料制成。9、可选地,所述导电件的表面电镀有氧化层。10、可选地,所述导电部呈圆盘状设置。11、本实用新型还提出一种气溶胶产生装置,所述气溶胶产生装置包括供电组件以及如上述所述的防止电极脱落的雾化组件,所述供电组件与所述防止电极脱落的雾化组件相连接。12、本实用新型技术方案提出一种防止电极脱落的雾化组件及气溶胶产生装置,所述防止电极脱落的雾化组件包括底座以及导电件,所述底座开设有卡孔,所述导电件包括导电部以及与所述导电部相连接的固定柱,所述导电部与所述固定柱一体成型设置,所述固定柱与所述卡孔卡扣连接。通过在导电件上设置固定柱,由固定柱与底座上的卡孔卡扣连接,便于导电件与底座紧固在一起,避免导电件出现脱落的现象,从而保障雾化组件正常工作。技术特征:1.一种防止电极脱落的雾化组件,其特征在于,所述防止电极脱落的雾化组件包括底座以及导电件,所述底座开设有卡孔,所述导电件包括导电部以及与所述导电部相连接的固定柱,所述导电部与所述固定柱一体成型设置,所述固定柱与所述卡孔卡扣连接。2.如权利要求1所述的防止电极脱落的雾化组件,其特征在于,所述卡孔内设置有卡块,所述固定柱包括柱本体以及与所述柱本体相连接的卡接头,所述卡接头与所述柱本体之间形成有卡槽,所述卡块与所述卡槽相配合。3.如权利要求2所述的防止电极脱落的雾化组件,其特征在于,所述柱本体与所述卡孔过渡配合。4.如权利要求2所述的防止电极脱落的雾化组件,其特征在于,所述卡接头的直径在远离所述柱本体的方向上呈渐缩设置。5.如权利要求2所述的防止电极脱落的雾化组件,其特征在于,所述柱本体靠近所述卡槽的一侧设有圆弧倒角。6.如权利要求2所述的防止电极脱落的雾化组件,其特征在于,所述卡块面向所述导电部的一侧设有倒角。7.如权利要求1-6任一项所述的防止电极脱落的雾化组件,其特征在于,所述导电件由导电磁性料制成。8.如权利要求7所述的防止电极脱落的雾化组件,其特征在于,所述导电件的表面电镀有氧化层。9.如权利要求1所述的防止电极脱落的雾化组件,其特征在于,所述导电部呈圆盘状设置。10.一种气溶胶产生装置,其特征在于,所述气溶胶产生装置包括供电组件以及如权利1-9任一项所述的防止电极脱落的雾化组件,所述供电组件与所述防止电极脱落的雾化组件相连接。技术总结本技术公开一种防止电极脱落的雾化组件及气溶胶产生装置,防止电极脱落的雾化组件包括底座以及导电件,所述底座开设有卡孔,所述导电件包括导电部以及与所述导电部相连接的固定柱,所述导电部与所述固定柱一体成型设置,所述固定柱与所述卡孔卡扣连接。在本技术实施例中,通过在导电件上设置固定柱,由固定柱与卡孔相配合,便于导电件与底座安装配合在一起,在该固定柱的作用下,避免导电件与底座之间出现松动的现象,从而保障雾化组件正常工作。技术研发人员:欧阳俊伟,陈文,高旭受保护的技术使用者:深圳市艾维普思科技有限公司技术研发日:20231026技术公布日:2024/7/9
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