一种用于光学元件终道抛光用阻尼布及其制备工
发布日期:2024-08-21 浏览次数: 专利申请、商标注册、软件著作权、资质办理快速响应热线:4006-054-001 微信:15998557370
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摘要: | 本发明涉及阻尼布,具体为一种用于光学元件终道抛光用阻尼布及其制备工艺。、阻尼布,是一种丝绒状的磨光材料,它质地细腻,表面柔软,多孔,呈弹性,使用周期长;研磨时可有效含浸研磨液,提高切削力的同时避免划伤工件;阻尼布适用于光学元件、晶体及金属和玻璃材料的终道抛光,也可用来抛光特殊材质,诸如硅、... | ||
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本发明涉及阻尼布,具体为一种用于光学元件终道抛光用阻尼布及其制备工艺。背景技术:1、阻尼布,是一种丝绒状的磨光材料,它质地细腻,表面柔软,多孔,呈弹性,使用周期长;研磨时可有效含浸研磨液,提高切削力的同时避免划伤工件;阻尼布适用于光学元件、晶体及金属和玻璃材料的终道抛光,也可用来抛光特殊材质,诸如硅、锗、硒脂锌、砷化镓、合金钢、陶瓷、塑料(丙烯酸玻璃)等。现有的阻尼布表面易滋生细菌霉变,使用寿命短;且阻尼布尼布表面不够平整、光滑,品质差,防水防污性能差。技术实现思路1、本发明的目的在于提供一种用于光学元件终道抛光用阻尼布及其制备工艺,通过弹性基底层中采用外包层包覆织物层的结构,且织物层利用纤维织物浸泡弹性涂料来增加织物层的强度和弹性,从而提高整个阻尼垫的平整度,草木灰本身具有杀菌作用,能够避免阻尼布滋生细菌霉变,提高阻尼布的使用寿命,解决了上述背景技术中提出的问题。2、为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:3、一种用于光学元件终道抛光用阻尼布,从抛光接触面至吸附面依次包括弹性基底层、拒水层和磨料层,所述拒水层包括隔水层和缓冲层,缓冲层采用含有改性玻璃体粉末的聚氨酯发泡材料制成,隔水层为聚氨酯防水膜,磨料层由以下重量份原料制成:亚微米氧化铈15-20份、氧化锆0.5-3份、氧化铬1-2份、稀土2-5份、二氧化硅1-2份和钴4-8份。4、优选的,所述弹性基底层包括织物层和外包层,织物层置于外包层内,弹性基底层的制备方法如下:将纤维织物浸到弹性涂料中,反复挤压,取出浸有弹性涂料的纤维织物,并挤压出多余的弹性涂料,在60℃的环境下烘干,得到织物层,在织物层的表面浇筑一层聚氨酯发泡材料,浇筑成膜后在105℃条件下固化30min,脱模,转移进入干燥箱中,升温至50-60℃预干燥20-30min,再升温至80-85℃干燥60-80min后得到成品弹性基底层。5、优选的,所述纤维织物为聚氨基甲酸酯纤维、聚酯纤维混编和芳纶纤维按照经纱密度和纬纱密度均为40根/cm进行平纹编织而成。6、优选的,所述弹性涂料包括以下重量份原料:聚氨酯30-35份、丁苯橡胶12-26份、石墨5-10份、丙烯酸酯2-8份、流平剂1-3份、固化剂10-30份和丙二醇1-6份。7、优选的,所述缓冲层的制备方法如下:将酯化棕榈丝和改性玻璃体粉末在常温下充分搅拌,甲苯二异氰酸酯、聚四亚甲基醚二醇、去离子水、硅油、辛酸亚锡和三乙烯二胺在常温下进行混合,添加到酯化棕榈丝和改性玻璃体粉末的混合材料中,然后真空脱气30min,并在60℃条件下保温,浇筑成膜后在105℃条件下固化30min,脱模,在105℃条件下熟化15h,室温条件下保存,制成缓冲层。8、优选的,所述缓冲层包括以下重量份原料:酯化棕榈丝5-8份、改性玻璃体粉末3-6份、甲苯二异氰酸酯30-40份、聚四亚甲基醚二醇90-110份、去离子水1-4份、硅油0.8-1.2份、辛酸亚锡0.1-0.5份和三乙烯二胺0.05-0.2份。9、优选的,所述酯化棕榈丝的酯化方法如下:棕榈叶鞘纤维片进行碱洗处理,获得碱处理棕榈纤维,再经打散、梳理分解成棕榈纤维单丝,向棕榈纤维单丝中加入甲醇和浓硫酸混合,进行酯化反应,制得酯化棕榈纤维。10、优选的,所述改性玻璃体粉末的制备方法如下:11、将草木灰与清水按照1:100的比例搅拌均匀后,静置2小时左右取沉淀物烘干,并粉碎成纳米草木灰粉末;再取草木灰、石英砂、凹凸棒土和石灰混合均匀,加入纳米草木灰粉末混合加入玻璃熔炉中,加热到1530-1600℃的高温下,熔炼2-3小时,再降至1400-1450℃下澄清1.5-2小时,制得玻璃液,然后淬入冷水中得到碎璃体,再研磨成3-5μm改性玻璃体粉末。12、优选的,所述改性玻璃体粉末包括以下重量份的原料:纳米草木灰粉末12-15份、草木灰15-22份、石英砂45-65份、凹凸棒土12-15份和石灰15-18份,草木灰采用稻草、小麦杆和花生壳中至少一种烧制而成。13、本发明要解决的另一技术问题是提供一种用于光学元件终道抛光用阻尼布的制备工艺,包括如下步骤:14、s1:在弹性基底层的表面涂刷一层聚氨酯防水涂层,将制备好的缓冲层粘黏到聚氨酯防水涂层上,等聚氨酯防水涂层干燥后,制成隔水层;15、s2:在缓冲层的表面表面热涂磨料,控制涂刷量为1.8-2.5g/cm 2,之后冷却固化,得到磨料层,经裁剪后,得到用于光学元件终道抛光用阻尼布。16、与现有技术相比,本发明的有益效果是:17、弹性基底层中采用外包层包覆织物层的结构,且织物层利用纤维织物浸泡弹性涂料来增加织物层的强度和弹性,从而提高整个阻尼垫的平整度,设置的缓冲层使用含有改性玻璃体粉末的聚氨酯发泡材料制成,使用酯化棕榈丝和改性玻璃体粉末混合,利用酯化棕榈丝吸附改性玻璃体粉末,并固定在棕榈丝上,制备的聚氨酯发泡材料在抛光时吸附抛光液,溶解棕榈丝上的改性玻璃体粉末,改性玻璃体粉末内的草木灰成分能够增加抛光液的碱性,提高对光学元件的抛光效果,且改性玻璃体粉末本身也能起到抛光粉的效果,草木灰本身具有杀菌作用,能够避免阻尼布滋生细菌霉变,提高阻尼布的使用寿命。技术特征:1.一种用于光学元件终道抛光用阻尼布,从抛光接触面至吸附面依次包括弹性基底层(1)、拒水层(2)和磨料层(3),其特征在于:所述拒水层(2)包括隔水层(21)和缓冲层(22),缓冲层(22)采用含有改性玻璃体粉末的聚氨酯发泡材料制成,隔水层(21)为聚氨酯防水膜,磨料层(3)由以下重量份原料制成:亚微米氧化铈15-20份、氧化锆0.5-3份、氧化铬1-2份、稀土2-5份、二氧化硅1-2份和钴4-8份。2.根据权利要求1所述的用于光学元件终道抛光用阻尼布,其特征在于:所述弹性基底层(1)包括织物层(11)和外包层(12),织物层(11)置于外包层(12)内,弹性基底层(1)的制备方法如下:将纤维织物浸到弹性涂料中,反复挤压,取出浸有弹性涂料的纤维织物,并挤压出多余的弹性涂料,在60℃的环境下烘干,得到织物层(11),在织物层(11)的表面浇筑一层聚氨酯发泡材料,浇筑成膜后在105℃条件下固化30min,脱模,转移进入干燥箱中,升温至50-60℃预干燥20-30min,再升温至80-85℃干燥60-80min后得到成品弹性基底层(1)。3.根据权利要求2所述的用于光学元件终道抛光用阻尼布,其特征在于:所述纤维织物为聚氨基甲酸酯纤维、聚酯纤维混编和芳纶纤维按照经纱密度和纬纱密度均为40根/cm进行平纹编织而成。4.根据权利要求3所述的用于光学元件终道抛光用阻尼布,其特征在于:所述弹性涂料包括以下重量份原料:聚氨酯30-35份、丁苯橡胶12-26份、石墨5-10份、丙烯酸酯2-8份、流平剂1-3份、固化剂10-30份和丙二醇1-6份。5.根据权利要求4所述的用于光学元件终道抛光用阻尼布,其特征在于:所述缓冲层(22)的制备方法如下:将酯化棕榈丝和改性玻璃体粉末在常温下充分搅拌,甲苯二异氰酸酯、聚四亚甲基醚二醇、去离子水、硅油、辛酸亚锡和三乙烯二胺在常温下进行混合,添加到酯化棕榈丝和改性玻璃体粉末的混合材料中,然后真空脱气30min,并在60℃条件下保温,浇筑成膜后在105℃条件下固化30min,脱模,在105℃条件下熟化15h,室温条件下保存,制成缓冲层(22)。6.根据权利要求5所述的用于光学元件终道抛光用阻尼布,其特征在于:缓冲层(22)包括以下重量份原料:酯化棕榈丝5-8份、改性玻璃体粉末3-6份、甲苯二异氰酸酯30-40份、聚四亚甲基醚二醇90-110份、去离子水1-4份、硅油0.8-1.2份、辛酸亚锡0.1-0.5份和三乙烯二胺0.05-0.2份。7.根据权利要求6所述的用于光学元件终道抛光用阻尼布,其特征在于:所述酯化棕榈丝的酯化方法如下:棕榈叶鞘纤维片进行碱洗处理,获得碱处理棕榈纤维,再经打散、梳理分解成棕榈纤维单丝,向棕榈纤维单丝中加入甲醇和浓硫酸混合,进行酯化反应,制得酯化棕榈纤维。8.根据权利要求7所述的用于光学元件终道抛光用阻尼布,其特征在于:所述改性玻璃体粉末的制备方法如下:9.根据权利要求8所述的用于光学元件终道抛光用阻尼布,其特征在于:所述改性玻璃体粉末包括以下重量份的原料:纳米草木灰粉末12-15份、草木灰15-22份、石英砂45-65份、凹凸棒土12-15份和石灰15-18份,草木灰采用稻草、小麦杆和花生壳中至少一种烧制而成。10.一种如权利要求9所述的用于光学元件终道抛光用阻尼布的制备工艺,其特征在于,包括以下步骤:技术总结本发明公开了一种用于光学元件终道抛光用阻尼布及其制备工艺,属于阻尼布技术领域。一种用于光学元件终道抛光用阻尼布,从抛光接触面至吸附面依次包括弹性基底层、拒水层和磨料层,所述拒水层包括隔水层和缓冲层,缓冲层采用含有改性玻璃体粉末的聚氨酯发泡材料制成,隔水层为聚氨酯防水膜。本发明解决了现有阻尼布表面易滋生细菌霉变的问题,本发明提出的一种用于光学元件终道抛光用阻尼布及其制备工艺,弹性基底层中采用外包层包覆织物层的结构,从而提高整个阻尼垫的平整度,改性玻璃体粉末内的草木灰成分能够增加抛光液的碱性,草木灰本身具有杀菌作用,能够避免阻尼布滋生细菌霉变,提高阻尼布的使用寿命。技术研发人员:李加海,杨惠明,孙传东受保护的技术使用者:安徽禾臣新材料有限公司技术研发日:技术公布日:2024/8/16
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