一种消光抗菌皮革的制备方法与流程

本发明涉及抗菌皮革的制备，具体涉及一种消光抗菌皮革的制备方法。背景技术：1、车载皮革主要包括真皮和人造革，人造革又分为pvc人造革、pu革、pu合成革等类型。近几年人们基于环保、可持续的理念在不断的探索，比如水性pu革的应用，生物基皮革的创新等，在新材料的领域大胆尝试。2、消光抗菌皮革是一种全新的思维来实现卫生安全的发明，通过皮革形貌上增长微纳米结构的方式，来实现物理意义上的抗菌功能。汽车方向盘用革在整个车载用革中表现的较为明显，有着极高要求的存在。一、它是直接与我们手上皮肤长时间接触，而且驾驶员在高集中驾驶中长时间的抓握方向盘也易产生手汗，易滋生细菌。二、方向盘处于我们视野正前方，其皮革表面光泽度要求很高，来避免光线反射造成的影响，以保证驾驶途中的安全性。消光抗菌皮革对于车载用革是有着迫切的需求，然而其要同时解决以上问题需要多方面技术和设备的支持，其中主要包含以下几点问题：1)抗菌结构的反光过高问题2)抗菌结构与皮革纹理结构结合的问题。为此，本发明提供一种消光抗菌皮革的制备方法。技术实现思路1、针对上述存在的技术不足，本发明的目的是提供一种消光抗菌皮革的制备方法，通过二次套刻砂结构工艺，实现消光的目的；抗菌消光采用模压成型结合imt离型的工艺方式实现，实现抗菌结构与皮革纹理结构最佳效果结合；解决了背景技术中提出的抗菌结构的反光过高问题以及抗菌结构与皮革纹理结构结合的问题。2、为解决上述技术问题，本发明采用如下技术方案：本发明提供一种消光抗菌皮革的制备方法，包括如下过程：3、s00：利用glv灰度直写光刻机先将砂的结构光刻出来，形成多种形貌和多种规格尺度的砂效形式；制备3-7um单元大小，2um深度的随机棱柱结构的基础上增长的抗菌结构的消光效果比较理想，三恩时光泽度测量仪在85和60度测量角度，表面光泽度1.0以内。20度测量角度，表面光泽度4左右。这种与正常无这种砂形貌的抗菌结构(表面光泽度30左右)比较可以起到很好的消光效果；4、s01：利用二次套刻工艺，将抗菌结构形貌加工在s00步骤中制备的结构形貌上；5、s02：将制备的抗菌消光结构通过uv转印的方式制备uv模具；得到可批量制造的两层结构复合的模具；6、s03：在热塑性基底材料上用uv转印方式将前三步制备的模具结构，涂敷在tpu或pp表面，本实施例采用的是tpu材料；7、s04：在s03中得到的tpu材料上的结构表面涂布离型uv树脂胶水光固化后得到离型uv树脂层；8、s05：将s04中的tpu材料在120度左右时，放入成型机中；因为tpu材料在这个温度下开始软化，而uv树脂材料仍然保持固态；在加温加压条件下，用皮纹金属模具将其纹路压凹在tpu材料表面；9、s06：将压凹皮纹用imt离型的方式施工；10、s07：将制备的抗菌消光皮革模具通过电铸包辊工艺。11、优选地，s00中砂效形式的多种形貌至少包括满面随机自由排布的球面结构、满面随机自由排布的棱柱棱锥结构、随机的球型与随机锥形组合排布的结构、随机的噪波结构以及其他具备随机多方向光反射面的结构。12、优选地，s00中砂效形式的结构尺度是多样随机的。13、优选地，s00中砂效形式的单元尺寸为1um-50um。14、优选地，s00中砂效形式的单元结构的深度是1um-20um。15、优选地，将抗菌结构形貌加工在s00步骤上制备的棱锥结构形貌上形成二维形貌图。16、优选地，将抗菌结构形貌加工在s00步骤上制备的棱锥结构形貌上形成三维形貌图。17、优选地，s05中用皮纹金属模具将其纹路压凹在tpu材料表面的温度压强条件为：120度和40kg压力。18、优选地，s06具体包括如下过程：19、在前面压出皮纹形貌的结构上，涂布一层uv粘结胶；20、贴上透明pc膜片后进行uv照射固化；21、将离型uv树脂与消光抗菌结构剥离，得到一个pc基底抗菌消光皮革反结构和一个tpu基底抗菌消光皮革的正结构。22、优选地，s07之后还包括按照正常涂皮流程批量生产抗菌消光皮革。23、本发明的有益效果在于：24、本发明通过glv灰度直写光刻机，可制造800mm*800mm的光刻模板，解决了的尺寸；再通过二次套刻砂结构工艺，实现消光的目的；经过多种方案的参数doe验证，抗菌消光采用模压成型结合imt离型的工艺方式实现，实现抗菌结构与皮革纹理结构最佳效果结合。技术特征：1.一种消光抗菌皮革的制备方法，其特征在于，包括如下过程：2.如权利要求1所述的一种消光抗菌皮革的制备方法，其特征在于，s00中砂效形式的多种形貌至少包括满面随机自由排布的球面结构、满面随机自由排布的棱柱棱锥结构、随机的球型与随机锥形组合排布的结构、随机的噪波结构以及其他具备随机多方向光反射面的结构。3.如权利要求2所述的一种消光抗菌皮革的制备方法，其特征在于，s00中砂效形式的结构尺度是多样随机的。4.如权利要求3所述的一种消光抗菌皮革的制备方法，其特征在于，s00中砂效形式的单元尺寸为1um-50um。5.如权利要求4所述的一种消光抗菌皮革的制备方法，其特征在于，s00中砂效形式的单元结构的深度是1um-20um。6.如权利要求5所述的一种消光抗菌皮革的制备方法，其特征在于，将抗菌结构形貌加工在s00步骤上制备的棱锥结构形貌上形成二维形貌图。7.如权利要求6所述的一种消光抗菌皮革的制备方法，其特征在于，将抗菌结构形貌加工在s00步骤上制备的棱锥结构形貌上形成三维形貌图。8.如权利要求7所述的一种消光抗菌皮革的制备方法，其特征在于，s05中用皮纹金属模具将其纹路压凹在tpu材料表面的温度压强条件为：120度和40kg压力。9.如权利要求8所述的一种消光抗菌皮革的制备方法，其特征在于，s06具体包括如下过程：10.如权利要求9所述的一种消光抗菌皮革的制备方法，其特征在于，s07之后还包括按照正常涂皮流程批量生产抗菌消光皮革。技术总结本发明公开了一种消光抗菌皮革的制备方法，属于抗菌皮革制备技术领域，本发明包括：S00：利用GLV灰度直写光刻机形成多种形貌和规格尺度的砂效形式；S01：利用二次套刻工艺加工抗菌结构形貌；S02：通过UV转印方式制备UV模具；S03：用UV转印方式将模具结构涂敷在TPU或PP表面；S04：涂布离型UV树脂胶水光固化得到离型UV树脂层；S05：放入成型机中，用皮纹金属模具将其纹路压凹在TPU材料表面；S06：将压凹皮纹用IMT离型的方式施工；S07：将制备的抗菌消光皮革模具通过电铸包辊工艺。本发明通过二次套刻砂结构工艺，实现消光的目的；经过多种方案的参数DOE验证，抗菌消光采用模压成型结合IMT离型的工艺方式实现，实现抗菌结构与皮革纹理结构最佳效果结合。技术研发人员：王增辉,赵章林,邵宜健受保护的技术使用者：浙江兆奕科技有限公司技术研发日：技术公布日：2024/8/15